硅烷沉積系統 氣相沉積設備 硅烷涂膠機是一種用于硅烷（Siih?）作為前驅體的薄膜沉積設備，主要用于半導體、納米壓印脫模工藝、光伏（太陽能電池）、顯示面板、玻璃、陶瓷納米材料等領域的材料制備。硅烷（SiH?）因其高反應性和低溫沉積特性，成為沉積非晶硅（a-Si）、微晶硅（μc-Si）、氮化硅（SiN?）和氧化硅（SiO?）等薄膜的關鍵化學品。

智能型無塵無氧烘箱 高溫氮氣無氧PI烤箱 電子膠體固化：銀膠/BCB膠/光刻膠高溫固化（300-450℃） 晶圓加工：退火處理、PI膜烘烤（±1℃波動精度） 陶瓷燒結：電子陶瓷材料無塵烘干（Class100潔凈環境）

真空存儲箱 真空保存箱 桌上真空儲存柜用于各類化工原料、貴重金屬、金屬粉末等各種固體、粉狀、糊狀、液體， 電子產品（半導體、電路板、電子成品、芯片、電池板、電池片、電子元器件、高級金屬制品、厭氧產品、易氧化產品等）及機金屬加工件與各類不便于冷藏的食品，還有書籍、衣物等厭氧 物品的真空存貯，以防潮、防氧化變色。

MSD烘箱 高溫超低濕烘箱 濕敏烤箱 烘焙容易產生老化，以及烘焙受潮超過 0.1wt%的元件產生損 害等原因，推薦使用 40°C + 5%RH 或是 90°C + 5%RH 條件烘焙。

超低濕烘箱 高溫低濕烤箱 濕敏原件烘箱滿足各種濕敏元件烘烤條件的專用烘烤設備，可實現： 40℃±5%Rh～90℃/±5%Rh 125℃~150℃/±5%Rh 烘烤及高溫試驗

精密熱板 光刻膠烤膠臺 堅膜烘膠臺光刻膠在曝光完成后，光刻膠需要經過再一次烘烤，因為這次烘烤在曝光后，所以稱為“曝光后烘烤”，簡稱后烘或堅膜，英文為Post Exposure Bake（PEB）。

真空保存箱 真空儲存柜 真空防潮柜適用于工廠、高等院校、科研等場所，適用于各類化工原料、貴重金屬、金屬粉末等各種固體、粉狀、糊狀、液體，電子產品（半導體、電路板、電子成品、芯片、電池板、電池片、電子元器件、高級金屬制品、厭氧產品、易氧化產品等）