HMDS烘箱，太陽(yáng)能電池片HMDS烘箱

HMDS烘箱，太陽(yáng)能電池片HMDS烘箱簡(jiǎn)介

光伏刻蝕是太陽(yáng)能電池制造過(guò)程中的重要環(huán)節(jié)，下面是一般光伏刻蝕工藝的流程：

1. 表面準(zhǔn)備：可以采用清洗溶液、酸洗、超聲波清洗等方式。

2. 光罩/掩膜涂覆：在光伏刻蝕中，需要使用光罩或掩膜來(lái)保護(hù)不需要刻蝕的區(qū)域。光

3. 刻蝕：具體刻蝕條件（如刻蝕液的濃度、溫度、刻蝕時(shí)間等）會(huì)根據(jù)電池設(shè)計(jì)和制造要求進(jìn)行控制。

4. 刻蝕后處理：后處理可能包括漂洗、清洗、脫罩等步驟，以確保電池片的質(zhì)量和可靠性。

5. 光伏電池制造其他工藝：刻蝕只是太陽(yáng)能電池制造的一部分，之后還需要進(jìn)行光伏電池的其他工藝。

HMDS烘箱，太陽(yáng)能電池片HMDS烘箱用途

光刻蝕刻加工的基本原理：

1. 光敏材料涂覆：首先，在待加工的基底表面涂覆一層光敏感材料（例如光刻膠）。該材料對(duì)于特定波長(zhǎng)的光會(huì)發(fā)生化學(xué)或物理變化。涂覆的光敏材料形成了一個(gè)稱為“光刻膠層"的薄膜。

2. 光罩設(shè)計(jì)和準(zhǔn)備

3. 曝光

4. 圖案形成

5. 刻蝕。

然而在光敏材料涂覆前需要將電池片基底做疏水性處理，該處理工藝需要借助HMDS增粘劑。一般通過(guò)氣相沉積的方法將HMDS處理在襯底表面。該設(shè)備為上海雋思HMDS烘箱

HMDS烘箱的性能：

溫度范圍：RT+10-200℃

真空度：≤1torr

操作界面：人機(jī)界面

工藝編輯：可儲(chǔ)存5個(gè)配方

氣體：N2進(jìn)氣閥，自動(dòng)控制

容積：定制

產(chǎn)品兼容性：2~12寸晶圓及碎片、方片等

適用行業(yè)：MEMS、太陽(yáng)能、電池片、濾波、放大、功率等器件，晶圓、玻璃、貴金屬，SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO（氧化鋅）、GaO（氧化鎵）、金剛石等第三代半導(dǎo)體材料。